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本实用新型提供一种化学机械研磨设备,包括基座和设置于所述基座上的研磨平台,其特征在于,还包括:供应滚筒和回收滚筒,分别位于所述研磨平台两端;研磨垫带,被限定于所述供应滚筒和回收滚筒之间,所述研磨垫带包括固定研磨颗粒表面的保护层;第一喷管及第...该专利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯国际集成电路制造(上海)有限公司授权不得商用。
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本实用新型提供一种化学机械研磨设备,包括基座和设置于所述基座上的研磨平台,其特征在于,还包括:供应滚筒和回收滚筒,分别位于所述研磨平台两端;研磨垫带,被限定于所述供应滚筒和回收滚筒之间,所述研磨垫带包括固定研磨颗粒表面的保护层;第一喷管及第...