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本实用新型提供了多晶硅生产中还原炉底盘密封面保护圈，所述保护圈设置于还原炉底盘上，包括环状的水平面和垂直裙边，水平面的外环边与垂直裙边的上边同边；所述水平面的底面和裙边的内侧均设置有四氟板，并且与还原炉底盘外缘贴合；本实用新型可以有效防止倒...
该专利属于天威四川硅业有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过天威四川硅业有限责任公司授权不得商用。

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