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用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物,以及抗蚀剂下层组合物制造技术
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下载用于抗蚀剂下层的包含芳香环的化合物,以及抗蚀剂下层组合物的技术资料
文档序号:6711941
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本发明披露了由以下化学式1表示的含芳香环化合物和包含所述化合物的抗蚀剂的下层组合物。在化学式1中,每个取代基与具体实施方式中定义的相同。所述含芳香环化合物可以具有优异的光学性能、机械特性和蚀刻选择性特性,并且可以利用旋涂涂覆方法应用。它对于...
该专利属于第一毛织株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过第一毛织株式会社授权不得商用。
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