温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本发明涉及一种硅片激光打标后的清洗工艺，其包括如下步骤：a、将激光打标后的硅片放置在所由HF溶液和水混合形成酸溶液中清洗；b、用去离子水对酸洗后的硅片进行循环冲洗；c、将硅片放入由NH4OH溶液、H2O2溶液和H2O组成的混合溶液清洗，硅片...
该专利属于无锡中微晶园电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过无锡中微晶园电子有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。