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本发明公开了一种双栅结构的薄膜晶体管的制造方法，晶体管的有源区和顶栅电极采用透明薄膜材料，在光刻涂胶时，在形成顶栅电极的透明导电薄膜表面涂布光刻胶；光刻曝光时，从衬底的背面进行曝光；经光刻显影后，在导电薄膜的表面形成与底栅电极正对的光刻胶图...
该专利属于北京大学深圳研究生院所有，仅供学习研究参考，未经过北京大学深圳研究生院授权不得商用。

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