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本发明公开了一种半导体装置及其制造方法，其中一实施例提供一种含至少三个有源区的半导体装置。此至少三个有源区彼此相邻。此至少三个有源区的纵轴相互平行且每一有源区包含一边缘与所对应区域的纵轴相交。此至少三个有源区的边缘形成一弧形。本发明可减少图...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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