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本发明公开了光波导的外延制备方法，包括在所述脊上沉积硅岛。在一些实施例中，硅岛的制作可以采用选择性外延方法或常规外延方法。在一些实施例中，第二个硅岛在第一硅岛上沉积。在一些实施例中，多个硅岛分别采用不同的方法制作。...
该专利属于上海圭光科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海圭光科技有限公司授权不得商用。

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