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一种等离子体刻蚀方法，包括：提供介质层，所述介质层表面形成有有机材料层，所述有机材料层表面形成有光刻图形层；以所述光刻图形层掩膜，对刻蚀气体为O2与CO的混合气体或者CO2与CO的混合气体等离子化，采用等离子化的O2与CO的混合气体或者CO...
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