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生长氮化物半导体的方法及由其形成的氮化物半导体衬底技术
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文档序号:6623354
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本发明涉及生长氮化物半导体的方法及由其形成的氮化物半导体衬底。一种生长氮化物半导体层的方法包括:准备衬底;在该衬底上形成氮化物半导体点;以及在该氮化物半导体点上生长氮化物半导体层。该氮化物半导体层可从该衬底分离以用作氮化物半导体衬底。...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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