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本发明提供一种获取基于BL模型的三维掩膜空气中成像的方法，属于光刻分辨率增强技术领域。当所述的掩膜为二值掩膜时，通过计算掩膜图形对应的总中央透射区域对应的透射率以及边界层的透射率，获取掩膜图形中各像素点对应的FTE和FTM进而计算出空气中成...
该专利属于北京理工大学所有，仅供学习研究参考，未经过北京理工大学授权不得商用。

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