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一种激光加工中晶圆片定位误差的量测方法技术
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文档序号:6511417
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本发明公开了属于半导体制造技术范围的一种激光加工中晶圆片定位误差的量测方法。所述的方法,首先是设计半导体制造的版图,在版图设计完成,并制版之后,进入制造流程,制造这些微测试结构。除低浓度掺杂区外其他部分的工艺均同常规工艺然后采用相应制造工艺...
该专利属于清华大学所有,仅供学习研究参考,未经过清华大学授权不得商用。
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