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本实用新型提供了一种离子注入机台离子源的校准装置，包括底座、位于该底座上并与底座一体成型的基板，该基板的表面具有相互平行的第一凹槽、第二凹槽、第三凹槽，并在该第一凹槽的反面安装第一齿轮、该第二凹槽的反面安装带有摇杆的第二齿轮以及第四齿轮、该...
该专利属于中芯国际集成电路制造（上海）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯国际集成电路制造（上海）有限公司授权不得商用。

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