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本实用新型公开了一种能提高产品质量的双层平面研磨机压力平衡机构，它包括立轴，立轴上设有由下磨盘传动系统（３）带动的主下磨盘（４）、副下磨盘（７）和由上磨盘传动系统（１１）带动的主上磨盘（６）、副上磨盘（８），其特征是所述的立轴为与底座（１）...
该专利属于湖南城市学院所有，仅供学习研究参考，未经过湖南城市学院授权不得商用。

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