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本发明公开了一种锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法，旨在提供一种采用负压涡流搅拌的方法制备抛光液，避免硅溶胶的凝胶或溶解，同时，避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入抛光液中，提高抛光液的纯度。使用电阻为１８ＭΩ以上的超纯水对透明密...该专利属于天津晶岭微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津晶岭微电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种锑化铟材料表面化学机械抛光液的制备方法，旨在提供一种采用负压涡流搅拌的方法制备抛光液，避免硅溶胶的凝胶或溶解，同时，避免有机物、金属离子、大颗粒等有害物质进入抛光液中，提高抛光液的纯度。使用电阻为１８ＭΩ以上的超纯水对透明密...