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本发明涉及一种钨钼合金材料化学机械抛光液的制备方法，旨在提供一种采用负压涡流搅拌的方法制备抛光液，以避免避免硅溶胶的凝胶或溶解，同时，避免有害物质进入抛光液中，提高抛光液的纯度。采用电阻为１８ＭΩ的超纯去离子水清洗透明密闭反应器及其进料管道...该专利属于天津晶岭微电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天津晶岭微电子材料有限公司授权不得商用。
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