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产生磁性偏置场的多层薄膜结构制造技术
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文档序号:6248898
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本实用新型涉及一种产生磁性偏置场的多层薄膜结构。其包括种子层与保护层;在种子层与保护层间可以设置至少一层磁性被钉扎层、至少一层非磁性钉扎层或是设置硬磁层;所述非磁性钉扎层为磁性被钉扎层提供磁性钉扎场,所述磁性钉扎场的方向与磁性偏置场的方向相...
该专利属于王建国;薛松生所有,仅供学习研究参考,未经过王建国;薛松生授权不得商用。
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