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硫属化物材料的化学气相沉积制造技术
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文档序号:6099536
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本发明提供用于制备电和光硫属化物材料的化学气相沉积(CVD)方法。在优选实施方式中,该CVD沉积的材料表现出一种或多种以下性质:电转换、累积、设置、可逆多状态特性、复位、认知功能和可逆非晶形-晶态转变。在一个实施方式中,通过CVD沉积多层结...
该专利属于奥翁尼克斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过奥翁尼克斯公司授权不得商用。
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