专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
AZ电子材料日本株式会社
>
正性作用可光成像底部抗反射涂层制造技术
>技术资料下载
下载正性作用可光成像底部抗反射涂层的技术资料
文档序号:607593
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本发明涉及一种新型的吸收性、可光成像并可水性显影的正性作用抗反射涂料组合物,该组合物包含光酸产生剂和聚合物,该聚合物包含至少一种具有酸不稳定基团的单元和至少一种具有吸收性生色团的单元。本发明进一步涉及使用这样的组合物的方法。本发明也涉及一种...
该专利属于AZ电子材料日本株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过AZ电子材料日本株式会社授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。