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本发明涉及尼莫地平贴片，属于药物的剂型设计技术领域。本发明由依次层叠成一体的背衬膜、储药库层、速率控释膜、压敏胶层和保护膜组成；该储药库层由含尼莫地平１０～２０％与透皮促渗剂２～１０％的交联的高分子材料制成的膜，其厚度为１．０～１．５ｍｍ；...该专利属于北京国仁堂医药科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京国仁堂医药科技发展有限公司授权不得商用。
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本发明涉及尼莫地平贴片，属于药物的剂型设计技术领域。本发明由依次层叠成一体的背衬膜、储药库层、速率控释膜、压敏胶层和保护膜组成；该储药库层由含尼莫地平１０～２０％与透皮促渗剂２～１０％的交联的高分子材料制成的膜，其厚度为１．０～１．５ｍｍ；...