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本发明公开了一种复合覆盖层的制作方法，包含有提供基底、在该基底表面形成复合覆盖层。该复合覆盖层至少包含有第一覆盖层与形成于其上的第二覆盖层。在该复合覆盖层表面形成图案化的金属硬掩模层，以及进行蚀刻工艺，经由该图案化的金属硬掩模层蚀刻该复合覆...
该专利属于联华电子股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过联华电子股份有限公司授权不得商用。

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