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光致抗蚀剂组合物制造技术
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文档序号:6054129
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本发明提供一种光致抗蚀剂组合物,所述的光致抗蚀剂组合物含有:包含由式(IA)表示的阴离子的锍盐,其中R1和R2独立地表示氢原子、C1-C12脂族烃基、C3-C20饱和环烃基、C6-C20芳族烃基或C7-C21芳烷基,并且所述脂族烃基、所述饱...
该专利属于住友化学株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友化学株式会社授权不得商用。
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