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本发明公开一种薄膜晶体管及其制造方法。在基板上依序形成栅极、栅绝缘层、氧化物半导体材料层、导电层及图案化光阻层。图案化光阻层包括二个第一部及连接于第一部之间的第二部，第一部的厚度大于第二部的厚度。以图案化光阻层为掩膜，移除未被图案化光阻层覆...
该专利属于友达光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过友达光电股份有限公司授权不得商用。

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