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一种基于高功率脉冲磁控溅射的离化率可控镀膜设备，所述镀膜设备包括：真空溅射体系、低压直流电源体系、高压脉冲电源体系、PLC中央控制体系和计算机；低压直流电源体系为真空体系提供低压电流，高压脉冲电源体系为真空体系提供高压脉冲电流；PLC中央控...
该专利属于中国科学院力学研究所所有，仅供学习研究参考，未经过中国科学院力学研究所授权不得商用。

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