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一种用于CMP抛光头多区的气压控制系统，属于半导体制造技术领域，其特征在于包括压力源、控制阀组、压力传感器、CPU、数模以及模数转换电路等。该控制系统通过对各支路的压力与流量控制实现对远端各腔室的压力控制。控制阀组的每条支路由正压与负压两个...
该专利属于清华大学所有，仅供学习研究参考，未经过清华大学授权不得商用。

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