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提供用来制作双波纹结构的光掩模及其形成方法。用来制造多层步进和闪光压印光刻（ＳＦＩＬ）模板的方法包括提供具有衬底、金属化层和第一抗蚀剂层的坯件。利用光刻系统在衬底中的第一深度处形成双波纹结构的金属层图案。从所述的坯件除去第一抗蚀剂层并且施加...
该专利属于凸版光掩膜公司所有，仅供学习研究参考，未经过凸版光掩膜公司授权不得商用。

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