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双靶磁控溅射法制备钛酸钴薄膜的方法技术
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文档序号:5522333
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双靶磁控溅射法制备钛酸钴薄膜的方法,分别将TiO2和Co2O3造粒、预烧制备TiO2靶材和Co2O3靶材,再将其分别放入磁控溅射仪的两个射频靶位中;将基片放入丙酮、乙醇混合溶液中再超声清洗备用;将处理后的基片放入磁控溅射仪的镀膜样品台上,对...
该专利属于陕西科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过陕西科技大学授权不得商用。
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