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提供了一种在制造半导体基底或平板显示器基底的基底停置、沉积或蚀刻工艺期间实时监控腔室的方法。通过使用等离子体发射光谱（ＯＥＳ）信息的时间序列神经网络分析方法的泄漏检测方法包括：基于ＯＥＳ信号检测从等离子体光谱是否产生了由于泄露导致空气被引入...
该专利属于塞米西斯科株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过塞米西斯科株式会社授权不得商用。

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