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一种用于在等离子处理应用期间对半导体晶片提供改良的电性接触的方法与装置。在一实施例中，本装置（１００）包括用以支撑晶片的晶片平台（１０６）以及多个电性接触元件（１２０），将多个电性接触元件（１２０）中的每个配置为提供通道，此通道用于将来自偏...
该专利属于瓦里安半导体设备公司所有，仅供学习研究参考，未经过瓦里安半导体设备公司授权不得商用。

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