下载氧化钇烧结体和等离子体处理装置用构件的技术资料

文档序号:5494795

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。

本发明提供一种高强度、低介电损耗的氧化钇烧结体。一种在1~20GHz的频率下的介电损耗tanδ为1×10-4以下的氧化钇烧结体,其特征在于,其含有99.9质量%以上的氧化钇,孔隙率为1%以下,平均晶粒直径为3μm以下,并且由下述(1)式算出...
该专利属于飞罗得陶瓷股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过飞罗得陶瓷股份有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。