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本发明涉及式（Ⅰ）化合物，其中Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＣＨ↓［２］－并且Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷氧基）－、－ＣＨ（低级烷基）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）↓［２］－或－ＣＨ↓［２］－；或者Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＮＨ－并且Ｙ－Ｒ↑［...该专利属于弗.哈夫曼-拉罗切有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过弗.哈夫曼-拉罗切有限公司授权不得商用。
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本发明涉及式（Ⅰ）化合物，其中Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＣＨ↓［２］－并且Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷氧基）－、－ＣＨ（低级烷基）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）↓［２］－或－ＣＨ↓［２］－；或者Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＮＨ－并且Ｙ－Ｒ↑［...