作为痕量胺相关受体(TAAR)的配体的新的2-咪唑类制造技术

本发明专利技术涉及式（Ⅰ）化合物，其中Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＣＨ↓［２］－并且Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷氧基）－、－ＣＨ（低级烷基）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）↓［２］－或－ＣＨ↓［２］－；或者Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＮＨ－并且Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷基）－或－ＣＨ↓［２］－；Ａｒ是苯基或萘基，该环任选被一个或两个取代基取代，所述的取代基选自卤素、低级烷氧基、低级烷基或被卤素取代的低级烷基；以及可药用酸加成盐。已经发现式Ⅰ化合物对痕量胺相关受体（ＴＡＡＲ）、特别是ＴＡＡＲ１具有很好的亲和性。化合物可以用于治疗抑郁症、焦虑症、双相性精神障碍、注意缺陷多动症（ＡＤＨＤ）、应激相关障碍、精神病性精神障碍例如精神分裂症、神经疾病例如帕金森病、神经变性障碍例如阿尔茨海默病、癫痫、偏头痛、高血压、物质滥用和代谢障碍例如进食障碍、糖尿病、糖尿病并发症、肥胖症、血脂异常、能量消耗和同化障碍、体温内环境稳定障碍和功能障碍、睡眠和昼夜节律障碍以及心血管障碍。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
式Ⅰ化合物以及可药用酸加成盐　＊＊＊　Ⅰ　其中　Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＣＨ↓［２］－，并且　Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷氧基）－、－ＣＨ（低级烷基）－、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓ（Ｏ）－、－Ｓ（Ｏ）↓［２］－或－ＣＨ↓［２ ］－；　或者　Ｘ－Ｒ↑［１］是－ＮＨ－，并且　Ｙ－Ｒ↑［２］是－ＣＨ（低级烷基）－或－ＣＨ↓［２］－；　Ａｒ是苯基或萘基，该环任选被一个或两个取代基取代，所述的取代基选自卤素、低级烷氧基、低级烷基或被卤素取代的低级烷 基；　除了以下化合物　２－苯乙基－１Ｈ－咪唑盐酸盐，　２－（３，４－二...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：G盖雷，K格勒布克斯宾登，R诺克罗斯，H思塔德尔，
申请(专利权)人：弗哈夫曼拉罗切有限公司，
类型：发明
国别省市：CH[瑞士]