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本发明公开了重复单元中含有－（ＲＯ）－或－（ＲＣＯＯ）－基团的聚合物在可实现自停止机制的多晶硅化学机械抛光液的制备及其使用中的应用，其中Ｒ为碳原子数为１～１０的烷基。本发明所述的聚合物用于抛光液的制备及其使用，可在固定的常规工艺参数抛光条件...
该专利属于安集微电子(上海)有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子(上海)有限公司授权不得商用。

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