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本发明提供了具有高回收效率的简单高纯度Xe回收方法及设备,其通过从来自半导体制造工艺(例如等离子体蚀刻)的、包含低浓度Xe的废气中功能性地除去例如水、CO↓[2]及FCs的成分而实现。对于包含氙及氟碳化合物的样品。本发明的特征为至少具有第一...该专利属于乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司授权不得商用。
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本发明提供了具有高回收效率的简单高纯度Xe回收方法及设备,其通过从来自半导体制造工艺(例如等离子体蚀刻)的、包含低浓度Xe的废气中功能性地除去例如水、CO↓[2]及FCs的成分而实现。对于包含氙及氟碳化合物的样品。本发明的特征为至少具有第一...