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本发明提供了硅表面抛光的方法，其中使用包含氧化铈颗粒、至少一种高分子的阴离子分散添加剂和至少一种氧化剂并且ｐＨ为７－１０．５的分散体，所述氧化铈颗粒带正电荷并且所述高分子的阴离子分散添加剂和氧化剂可溶于所述分散体的液相中。...
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