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本发明公开了一种在衬底中或衬底上的至少一个器件层中形成图案的方法，该方法包括：给该器件层涂上第一光致抗蚀剂层；用第一掩模来曝光第一光致抗蚀剂；对第一光致抗蚀剂层进行显影，以在衬底上形成第一图案；给衬底涂上保护层；对保护层进行处理，使得与第一...
该专利属于NXP股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过NXP股份有限公司授权不得商用。

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