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本发明描述的实施例提供用于去除基板上的自然氧化物，同时将下方的基板表面予以钝化的方法。在一实施例中，提供一种方法，其包括：将包含氧化物层的基板放置于工艺腔室内；调整该基板的第一温度到约８０℃或更小；在该工艺腔室内由气体混合物产生清洁等离子体...
该专利属于应用材料股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料股份有限公司授权不得商用。

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