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当由等离子体产生的自由基经由形成于将等离子体形成室（１０８）与处理室分隔开的分隔板上的多个孔（１１１）而被导入到处理室时，自由基与单独被导入到处理室中的处理气体混合，抑制自由基的激发能，由此能够以高的Ｓｉ选择性进行基板表面处理，这能够在不使...
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