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高频等离子CVD装置与高频等离子CVD法以及半导体薄膜制造法制造方法及图纸
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文档序号:5458429
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与构成串联型薄膜硅太阳能电池的制造用的VHF等离子CVD装置的等离子产生源有关,其目的在于提供能够抑制驻波的影响以及在一对电极之间以外产生的有害等离子的产生、并且抑制供给电力的在这一对电极之间以外的消耗的大面积.均匀的VHF等离子CVD装置...
该专利属于村田正义所有,仅供学习研究参考,未经过村田正义授权不得商用。
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