温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
可瞬时变更加工箱内气体介质的浓度，能够以高生产率且低成本来实现液晶设备或半导体设备的生产所需的等离子反应处理加工。对各个成分气体的压力控制型流量调整器提供的新的流量设定值设为，以在浓度变更前后总流量值相同作为条件，根据所假设的变更后的加工气...该专利属于欧姆龙株式会社;国立大学法人东北大学所有，仅供学习研究参考，未经过欧姆龙株式会社;国立大学法人东北大学授权不得商用。
温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。
可瞬时变更加工箱内气体介质的浓度，能够以高生产率且低成本来实现液晶设备或半导体设备的生产所需的等离子反应处理加工。对各个成分气体的压力控制型流量调整器提供的新的流量设定值设为，以在浓度变更前后总流量值相同作为条件，根据所假设的变更后的加工气...