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本发明涉及式（Ｉ）的异唑－吡啶衍生物，其中：Ｘ是Ｏ或ＮＨ；Ｒ１是苯基、吡啶基或嘧啶基，其各自任选地被１、２或３个卤素取代，Ｒ２是Ｈ或ＣＨ３或ＣＦ３；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５和Ｒ６各自独立地是Ｈ、任选地被取代的Ｃ１－７烷基、任选地被取代的Ｃ１－７烷氧...该专利属于弗.哈夫曼－拉罗切有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过弗.哈夫曼－拉罗切有限公司授权不得商用。
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本发明涉及式（Ｉ）的异唑－吡啶衍生物，其中：Ｘ是Ｏ或ＮＨ；Ｒ１是苯基、吡啶基或嘧啶基，其各自任选地被１、２或３个卤素取代，Ｒ２是Ｈ或ＣＨ３或ＣＦ３；Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５和Ｒ６各自独立地是Ｈ、任选地被取代的Ｃ１－７烷基、任选地被取代的Ｃ１－７烷氧...