温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
在于金属基体的表面上进行电镀时,包括二氧化碳和惰性气体中的至少一者,分散有金属粉末的电镀液和表面活性剂,在超临界状态或亚临界状态,采用诱导共析现象,进行电镀。由于电镀液中的金属浓度为饱和或过饱和状态,故可抑制金属基体的溶解速度,并且采用诱导...该专利属于S.E.S.株式会社;宫田清藏所有,仅供学习研究参考,未经过S.E.S.株式会社;宫田清藏授权不得商用。
温馨提示:您尚未登录,请点 登陆 后下载,如果您还没有账户请点 注册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
在于金属基体的表面上进行电镀时,包括二氧化碳和惰性气体中的至少一者,分散有金属粉末的电镀液和表面活性剂,在超临界状态或亚临界状态,采用诱导共析现象,进行电镀。由于电镀液中的金属浓度为饱和或过饱和状态,故可抑制金属基体的溶解速度,并且采用诱导...