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辐射敏感组合物和可成像元件包括在可成像层中的聚合物或非聚合物组分，该组分包括１Ｈ－四唑基团。非聚合物组分可以为可自由基聚合化合物。聚合物组分可以具有挂在主链上的１Ｈ－四唑基团。在负片型或正片型可成像元件中使用这些成分提供了高曝光速度和改进的...
该专利属于伊斯曼柯达公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊斯曼柯达公司授权不得商用。

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