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有机硅树脂组合物和沟槽隔离的形成方法技术
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文档序号:5441908
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本发明涉及有机硅树脂,其特征在于:由下述示性式(1)表示: (H2SiO)n(Si1.5)m(SiO2)k(1);(式(1)中,n、m和k分别为数,n+m+k=1时, n为0.05以上,m超过0但为0.95以下,k为0~0.2),该树脂在1...
该专利属于JSR株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过JSR株式会社授权不得商用。
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