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高负电动势多面体倍半硅氧烷组合物及无损坏半导体湿式清洁方法技术
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文档序号:5436986
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一种用以自集成电路基板移除微粒物质的组合物,包括(a)一或多种不含金属离子的碱;(b)多面体倍半硅氧烷的水溶性不含金属离子的鎓盐;(c)氧化剂;和(d)不含金属离子的水,及由合并包括(a)、(b)、(c)和(d)的成份而得的组合物。一种用以...
该专利属于沙琛公司所有,仅供学习研究参考,未经过沙琛公司授权不得商用。
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