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本发明涉及一种用于核微孔膜生产过程的防护结构。本发明的一种用于核微孔膜生产过程的防护结构包括一个用于形成第一核微孔膜的第一膜层，在该第一膜层一面上认为不需要微孔的位置涂布有第一防护层，在该第一膜层的另一面复合保护膜层，其特征在于：在保护膜层...
该专利属于中山国安火炬科技发展有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中山国安火炬科技发展有限公司授权不得商用。

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