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本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于ＥＵＶ光刻的投影曝光设备（１），包括：围住内部空间（１５）的外壳（２）；至少一个布置在所述外壳（２）中的光学元件（４至１０，１２，１４．１至１４．６），特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳（２）的...该专利属于卡尔.蔡司半导体技术股份公司;ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔.蔡司半导体技术股份公司;ASML荷兰有限公司授权不得商用。