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一种用于形成构图薄膜的原子层沉积方法，包括：（ａ）提供基板；（ｂ）向基板涂布含有沉积抑制剂材料的组合物，其中该沉积抑制剂材料是有机硅氧烷聚合物；和（ｃ）在步骤（ｂ）后或在与涂布沉积抑制剂材料的同时对沉积抑制剂材料进行构图，从而有效地提供没有...
该专利属于伊斯曼柯达公司所有，仅供学习研究参考，未经过伊斯曼柯达公司授权不得商用。

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