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一种修正／修复光刻投影曝光设备的投影物镜（１０）的方法，该投影物镜包括位于物平面（１２）和像平面（１６）之间的多个光学元件，该多个光学元件包括至少一个具有屈光力的第一光学元件，该方法包括：在不更换全部的光学元件的情况下，在现场将至少一个第一...
该专利属于卡尔蔡司SMT股份公司所有，仅供学习研究参考，未经过卡尔蔡司SMT股份公司授权不得商用。

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