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本发明提供一种膜组合物，其是用于涂布扩散法的膜形成组合物，能够将更高浓度的杂质扩散到硅片中，而且能够同时形成二氧化硅类被膜。本发明涉及一种膜形成组合物，其是构成扩散膜的膜形成组合物，该扩散膜形成在硅片上，用来使杂质元素扩散到该硅片中，该膜形...
该专利属于东京应化工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京应化工业株式会社授权不得商用。

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