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公开了用于由前体气体生产ＩＶ族元素半导体纳米颗粒的集合的等离子处理装置。装置包括外介电管，外管包括外管内表面和外管外表面，其中外管内表面具有外管内表面蚀刻速率。装置还包括内介电管，内介电管包括内管外表面，其中外管内表面和内管外表面限定出环形...
该专利属于创新发光体公司所有，仅供学习研究参考，未经过创新发光体公司授权不得商用。

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